用途:该设备用于带框生瓷片冲腔工艺,具有自动上下料、自动定位,自动冲切等功能,满足LTCC、HTCC中冲切工艺需求。
TIME: 2024-12-12随着半导体行业发展,砷化镓、磷化铟等二代半导体化合物材料、氮化镓、碳化硅等三代宽禁带半导体材料,对于湿化学清洗工艺提出了新要求。在配置传统独立湿处理工艺槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基础上,新材料清洗设备按照客户工艺菜单进行优化设置,配液精度、配液种类、清洗方式方面进行设计提升,同时保持与行业厂商、学校研究院所的积极联合探索和设备定制。
TIME: 2024-10-11有不同的独立湿处理工艺槽、按照客户工艺菜单的设置,机械手在各工艺槽中进行相应的工艺处理。适合用于基片批量的腐蚀/去胶/显影/清洗等工艺.
TIME: 2024-10-11自动供液系统可以通过VMB给多台设备进行供液。具有过滤、循环功能,根据用户要求配备双组或者多组过滤、循环系统;当其中一个桶内的液体用完时,能够自动进行双桶切换并且提示用户。同时还具备化学液的取样检测功能。
TIME: 2024-10-11该设备用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加压作业,最 大压力80MPa,最大直径600,最小230
TIME: 2024-10-11全自动叠层机是用于生瓷片叠片的设备,具备自动上下料、自动切片、自动撕膜、自动对位、真空叠压等功能,广泛应用于LTCC、HTCC、MLCC等领域。
TIME: 2024-10-12第25届中国国际光电博览会(以下简称中国光博会)在深圳国际会展中心(宝安新馆)举办。 本次展会吸引了全球超过3700家光电企业汇聚一堂,吸引了超过12万观众来到现场。展会覆盖了信息通信、精密光学、摄像头技术及应用、激光及智能制造、红外&紫外、智能传感、新型显示等多个光电领域,从材料、器件、设备、核心技术到成套解决方案,展示了光电产业的最新成果,为光电产业及其下游应用领域带来了前沿的新技术、新模式。
3月20日,被誉为“半导体盛宴”的SEMICON China 2024在上海新国际博览中心盛大开幕,此次盛会汇聚了全球半导体产业链的众多企业,共同打造了一场半导体行业的视觉与智慧盛宴。SEMICON China不仅是中国半导体产业蓬勃发展的见证者,更是全球范围内技术、产业、市场、创新、投资等多维度交流的重要平台。