用途:该设备用于带框生瓷片冲腔工艺,具有自动上下料、自动定位,自动冲切等功能,满足LTCC、HTCC中冲切工艺需求。
TIME: 2024-12-12随着半导体行业发展,砷化镓、磷化铟等二代半导体化合物材料、氮化镓、碳化硅等三代宽禁带半导体材料,对于湿化学清洗工艺提出了新要求。在配置传统独立湿处理工艺槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基础上,新材料清洗设备按照客户工艺菜单进行优化设置,配液精度、配液种类、清洗方式方面进行设计提升,同时保持与行业厂商、学校研究院所的积极联合探索和设备定制。
TIME: 2024-10-11有不同的独立湿处理工艺槽、按照客户工艺菜单的设置,机械手在各工艺槽中进行相应的工艺处理。适合用于基片批量的腐蚀/去胶/显影/清洗等工艺.
TIME: 2024-10-11自动供液系统可以通过VMB给多台设备进行供液。具有过滤、循环功能,根据用户要求配备双组或者多组过滤、循环系统;当其中一个桶内的液体用完时,能够自动进行双桶切换并且提示用户。同时还具备化学液的取样检测功能。
TIME: 2024-10-11该设备用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加压作业,最 大压力80MPa,最大直径600,最小230
TIME: 2024-10-11全自动叠层机是用于生瓷片叠片的设备,具备自动上下料、自动切片、自动撕膜、自动对位、真空叠压等功能,广泛应用于LTCC、HTCC、MLCC等领域。
TIME: 2024-10-12热切机是一种利用热能使材料熔化并分离的机械设备。以下是关于它的详细介绍: 1.工作原理 通用原理:通过加热刀片或切割工具使其达到一定温度,然后施加压力,使材料在热和压力的共同作用下熔化并实现分离,从而切割成所需的形状。
IPA 雾化干燥机是一种主要应用于晶圆加工等领域的干燥设备,利用异丙醇(IPA)的特性来实现干燥功能,以下是具体介绍: 1.工作原理:采用加热异丙醇形成气雾,与惰性气体一起对晶圆表面的水分子进行吸附,再通过加热使得异丙醇挥发,从而实现对晶圆的清理干燥。在干燥时,首先晶圆处于被夹持的静止状态,IPA 雾化剂喷射到晶圆的表面,由于 IPA 雾化剂具有较强的高分子作用力,IPA 雾化剂能进入到晶圆表面的微孔中,将其中的水分带出,进而达到干燥的目的。
化学品通风柜是实验室等场所中常用的安全设备,主要有以下用途: 1.控制有害气体 保护人员安全:在进行化学品实验或处理时,往往会产生各种有害气体、蒸汽或粉尘等。通风柜通过强大的抽风系统,能及时将这些有害物质从操作区域排出,防止其在实验室中扩散,从而保护实验人员免受有害气体的侵害,避免吸入有毒物质而引发健康问题,如呼吸道疾病、中毒等。