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用途：该设备用于带框生瓷片冲腔工艺，具有自动上下料、自动定位，自动冲切等功能，满足LTCC、HTCC中冲切工艺需求。
随着半导体行业发展，砷化镓、磷化铟等二代半导体化合物材料、氮化镓、碳化硅等三代宽禁带半导体材料，对于湿化学清洗工艺提出了新要求。在配置传统独立湿处理工艺槽（SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry）的基础上，新材料清洗设备按照客户工艺菜单进行优化设置，配液精度、配液种类、清洗方式方面进行设计提升，同时保持与行业厂商、学校研究院所的积极联合探索和设备定制。
有不同的独立湿处理工艺槽、按照客户工艺菜单的设置，机械手在各工艺槽中进行相应的工艺处理。适合用于基片批量的腐蚀/去胶/显影/清洗等工艺.
思恩半导体是专业制造基于SEMI标准、具有国际CE认证、与国际先 进水平同步的基片湿处理系统、微电子自动化设备及相关零部件的企业。我们拥有美国和中国专利，并能为中国市场上制造与国外高科技同步的半导体设备而感到自豪。思恩生产的设备包括全自动/半自动/手动基片湿处理系统，异丙醇干燥机系统，化学供液系统，零部件清洗系统，多层陶瓷加工设备等。企业秉承BEST!(Better price更合理的价格, Excellent service更优 质的服务, Superior quality更出众的品质, Total solution全 方位的解决方案)。
More有机清洗机是使用有机溶剂作为清洗剂的设备，主要用于清洗各类油污、油脂、树脂等有机污染物。以下是其特点： 1.清洗能力强：有机溶剂对有机污染物具有良好的溶解性和亲和力，能快速有效地溶解并去除油污、油脂、树脂、油墨等顽固污渍，尤其适用于清洗那些用水基清洗剂难以去除的污垢，可使清洗后的物品表面洁净度高。
2025-03-25⇀
生瓷片冲腔机主要应用于以下行业： 1.电子信息产业： 多层陶瓷电容器（MLCC）制造：MLCC 是电子设备中常用的元件，生瓷片冲腔机用于在生瓷片上冲制出各种形状和尺寸的腔体，以便后续填充电极材料和介质材料，实现电容器的多层结构，提高电容器的性能和容量。
2025-03-19⇀
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